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　　MetaDi鉆石懸浮液和漿料是的單晶和多晶金剛石拋光產(chǎn)品，可提供可重復(fù)的性能并提供良好的樣品質(zhì)量。嚴(yán)格控制Buehler的MetaDi鉆石懸浮拋光劑和糊劑產(chǎn)品，以防止粒徑或濃度出現(xiàn)任何偏差。 這樣可尋求每個樣品的拋光結(jié)果均具有可重現(xiàn)性，并具有的表面光潔度?；谖⒚壮叽绲念伾幋a的鉆石懸浮液和糊劑有助于防止拋光表面上的交叉污染。由于對水的性或鉆石的嵌入，某些材料與傳統(tǒng)的水基懸浮液不兼容。 與水的材料一起使用時，油基MetaDi單晶金剛石懸浮液以及MetaDi金剛石漿料提供了多種選擇。標(biāo)樂金剛石懸浮液及研磨膏

　　拋光布配合研磨料使用，可去除表面變形層，暴露材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行金相分析。由于拋光是金相制備過程中其重要的一步，所以選擇的拋光布是非常必要的。標(biāo)樂（Buehler）的金相拋光布配合MetaDi金剛石拋光液，為樣品的每步制備都提供可靠的結(jié)果及完整的解決方案。選用的拋光布類型主要取決于要處理材料的類型和終分析要求。標(biāo)樂（Buehler）提供各種材質(zhì)、編織方式和絨毛長短的拋光布，滿足每一種應(yīng)用需求。標(biāo)樂提供PSA吸附和磁性襯背拋光布。其中磁性襯背拋光布可以快速更換，無需撕下粘貼。耐用的磁性襯背可以減少更換拋光布的頻率，

　　金剛石磨片石磨盤提供長壽命研磨表面，可為各種材料提供出色的表面平整度。 標(biāo)樂（Buehler）金剛石磨盤中的金剛石顆粒提供了一致性的去除率和更長的使用壽命，只需偶爾修整。 標(biāo)樂（Buehler）的金剛石磨盤具有良好的邊緣保持性，較長的使用壽命和結(jié)果的一致性，是自動化系統(tǒng)中定量去除材料的選擇。標(biāo)樂（Buehler）提供多種不同類型的金剛石磨盤產(chǎn)品，具體取決于所加工的材料以及所需的速度和表面質(zhì)量。CGD 特點(diǎn)：非常高的去除率和優(yōu)異的平整度，非常適合研磨高強(qiáng)度材料。DGD Mosaic 特點(diǎn)：材料去除率高，表面

　　Buehler的CarbiMet和MicroCut碳化硅磨紙是SiC磨盤的主要產(chǎn)品，可有效去除材料并減少表面損傷。 我們的圓盤具有各種粒度，微米大小和直徑。CarbiMet碳化硅磨盤可在磨削過程中提供快速的磨削時間，同時將表面損傷降至低。 由于要去除的損壞較少，因此可能會減少后續(xù)處理的數(shù)量，從而節(jié)省了寶貴的準(zhǔn)備過程時間。Apex S支持可在CarbiMet步驟之間進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換。 只需移除之前的SiC研磨紙，然后再涂下一張即可，而無需移除任何背襯或襯墊。MicroCut砂紙?jiān)谔幚硪姿榛虿牧蠒r可提供溫和的材料

　　Planar磨石是設(shè)計(jì)用于PlanarMet 300的多用途磨盤。其能夠提供高磨削率和一致的劃痕圖案。Buehler磨石Planar特點(diǎn)：▲快速去除表面材料，保持一致的光潔度?高速研磨石可快速去除表面雜質(zhì)，并提供出色的平整度和表面光潔度。這常常能減少后續(xù)步驟的處理量。▲適用于多種材料?提供氧化鋁或碳化硅研磨料,可以研磨多種材料。

　　當(dāng)某些較軟的、有韌性的試樣，需要經(jīng)過最終拋光才能達(dá)到理想效果時，應(yīng)選用氧化物懸浮拋光液。名稱說 明粒度包裝（瓶）二氧化硅懸浮研磨拋光液機(jī)械/化學(xué)拋光，液態(tài)氧化硅懸浮液，PH9.5用于高純度金屬及合金、礦物、陶瓷、聚合物的最終拋光。用法：直接使用用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。0.04μm500ml機(jī)械/化學(xué)拋光，液態(tài)氧化硅懸浮液，PH10用于所有材料快速最終拋光。用法：直接使用用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)

　　本產(chǎn)品含有經(jīng)過精選的多晶金剛石和特殊的研磨介質(zhì)，用于各種金屬、陶瓷、符合材料及玻璃、寶石等的研磨和拋光，特別適用于金相研磨和拋光。該產(chǎn)品不含任何氟利昂，對環(huán)境無害，屬于環(huán)保產(chǎn)品。高效金剛石拋光劑使用方法：1. 使用前拋光織物需用清水濕透，避免磨擦熱。 2. 啟動拋光盤后將拋光劑輕搖后倒置噴出。 3. 噴撒拋光劑時，應(yīng)以拋光盤中心為圓心，沿半徑方向噴出3--5s即可。 4. 新織物噴撒時間相應(yīng)延長，以使織物的磨削能力更完美。推薦配套使用：本公司供應(yīng)的金相拋光潤滑冷卻液，樣品的拋光效果佳。高效金剛石拋光劑使用

　　金剛石懸浮研磨拋光液概述： 每一顆金剛石都經(jīng)精挑細(xì)選，嚴(yán)格的分級粒度，X進(jìn)的制備工藝使之適用于不同的磨拋載體，滿足不同樣品的制備需求。不僅適用于金相和巖相研磨、拋光，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。本系列金剛石懸浮研磨拋光液，具備高的磨削率和去除率。- 快速去除率- 經(jīng)久耐磨性- 優(yōu)良潤滑性名稱說 明粒度包裝（瓶）金剛石懸浮研磨拋光液水基，標(biāo)準(zhǔn)濃度、單晶金剛石（HFMW）金相和巖相研磨、拋光。各種黑色和有色金屬研磨拋光。陶瓷、復(fù)合材

　　當(dāng)某些較軟的、有韌性的試樣，需要經(jīng)過終拋光才能達(dá)到理想效果時，應(yīng)選用氧化物懸浮拋光液。名稱說 明粒度包裝（瓶）氧化鋁懸浮研磨拋光液懸浮拋光液采用高純度氧化鋁微粉調(diào)制而成，磨料分散穩(wěn)定、顆粒大小均勻、無聚積，PH值中性，用于各種精密產(chǎn)品及金相切片分析的拋光。 用法：直接使用7μm、5μm、3μm、 1μm500ml0.5μm、0.3μm、0.1μm 0.05μm500ml鋁溶膠采用高純度氧化鋁微粉調(diào)制而成，磨料硬度高、磨削力強(qiáng)、PH值8.5 , 用于貴金屬、鐵基金屬、碳化物、低熔點(diǎn)合金、印刷線路板、電子元器

　　金相拋光織物系列專門用于金相制樣時的粗拋和精拋。適用國內(nèi)、外各種型號、規(guī)格的金相拋光機(jī)，尤其適用于手動、半自動、全自動金相研磨拋光機(jī)。將該系列拋光織物及金剛石研磨拋光系列產(chǎn)品和金相拋光潤滑冷卻液配套使用，可以磨拋出鏡面效果。主要技術(shù)參數(shù)：材質(zhì)說明帶背膠規(guī)格無背膠規(guī)格包裝（片/盒）絲絨長絨化纖材質(zhì)，選用7μm-2.5μm金剛石、氧化物磨料,用于鋼鐵材料常用的拋光。Φ200mmΦ250mm15片Φ250mmΦ300mm15片Φ300mm 15片絲絨長絨真絲材質(zhì)，選用3.5μm-0.5μm金剛石磨料，也可與1μ

　　金相拋光潤滑冷卻液，專門用于金相制樣的精磨及拋光時的潤滑和冷卻。金相拋光潤滑冷卻液的潤滑、冷卻效果好，對于有色金屬及較軟的鐵基金屬的磨、拋效果尤其明顯。使用該潤滑液及同時使用本公司生產(chǎn)的金相專用拋光系列產(chǎn)品：金剛石研磨拋光系列產(chǎn)品和金相拋光織物拋制出的樣品，表面潔凈、消除金相組織的變形，從而最大限度地減少金相制樣對真實(shí)金相組織的干擾。金相冷卻潤滑拋光液適用國內(nèi)、外各種型號、規(guī)格的金相拋磨機(jī)，尤其適用于各種半自動或全自動金相拋磨機(jī)。主要技術(shù)參數(shù)：名稱說 明包裝（瓶）金相拋光潤滑液藍(lán)色MP-B，用于大多數(shù)材料

　　標(biāo)樂研磨拋光配件耗材1、Planar磨石Planar磨石是設(shè)計(jì)用于PlanarMet 300的多用途磨盤。其能夠提供高磨削率和一致的劃痕圖案。2、碳化硅砂紙CarbiMet & MicroCut碳化硅砂紙?zhí)峁﹥?yōu)的質(zhì)量，保證高效的材料去除和Z小的表面損壞。3、金剛石磨盤金剛石磨盤提供長壽命研磨表面，可為各種材料提供良好的表面平整度。 標(biāo)樂（Buehler）金剛石磨盤中的金剛石顆粒提供了一致性的去除率和更長的使用壽命，只需偶爾修整。 標(biāo)樂（Buehler）的金剛石磨盤具有良好的邊緣保持性，較長的使用壽